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硅碳CVD
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硅碳CVD、乙炔包覆回转炉

专业用于硅碳负极CVD气相沉积工艺。。。。。。

选件:
产品特点

1、烧结周期短:动态烧结方法,,,,,,,热传导速率快,,,,,,,大大缩短烧结周期,,,,,,,相对能耗优于其他炉型;;;;;;;;

2、物料品质匀称:物料在炉内的运动状态为动态的前进和翻转,,,,,,,受热匀称,,,,,,,确保了物料充分烧结,,,,,,,物料品质一致性好;;;;;;;;

3、单机产能可扩产:较大单机产能,,,,,,,且易于实现规模放大,,,,,,,单台装备产能可达5-200kg/批,,,,,,,且有实现一连化生产的可能;;;;;;;;

4、清静系数高:炉内微正压,,,,,,,排气结构简朴,,,,,,,可有用泄压,,,,,,,清静性能相对较高。。。。。。

 

产品详情
额定温度 控温精度 烧结气氛 生产方法 单次处置惩罚量
600℃ ±1℃ 氮气,硅烷,乙炔 间歇式、一连式 5-200kg/批
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